三氟化氮(NF&lt;sub&gt;3&lt;/sub&gt;)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF&lt;sub&gt;3&lt;/sub&gt;+5 H&lt;sub&gt;2&lt;/sub&gt;O = 2NO+...

题型：单选题题类：常考题难易度：普通

三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5 H₂O = 2NO+HNO₃+9 HF，下列有关该反应的说法正确的是（）

A、NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂 B、HF是还原产物 C、还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1 D、NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

举一反三

已知：①菱锰矿的主要成分是MnCO₃ ，其余为Fe、Ca、Mg、Al等元素。②部分阳离子沉淀时溶液的pH；

③焙烧过程中主要反应为MnCO₃+2NH₄Cl $\text{[math]}$ MCl₂+2NH₃↑+CO₂↑+H₂O

I.向铝灰中加入过量稀H₂SO₄ ，过滤：

II.向滤液中加入过量KMnO₄溶液，调节溶液的pH约为3；

III.加热，产生大量棕色沉淀，静置，上层溶液呈紫红色：

IV.加入MnSO₄至紫红色消失，过滤；

V.浓缩、结晶、分离，得到产品。

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