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试题 试卷

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  • 题型:综合题 题类:模拟题 难易度:普通

    单晶硅是信息产业中重要的基础材料.通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450﹣500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅.以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图.

    查阅相关资料获悉:

    a.四氯化硅遇水极易水解;

    b.铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

    c.有关物质的物理常数见下表:

    物质

    SiCl4

    AlCl3

    FeCl3

    PCl5

    沸点/℃

    57.7

    315

    熔点/℃

    ﹣70.0

    升华温度/℃

    180

    300

    162

    请回答下列问题:

    (1)写出装置A中发生反应的离子方程式1
    【答案】
    (2)装置A中g管的作用是1;装置C中的试剂是2;装置E中的h瓶需要冷却理由是3
    【答案】
    (3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,含有铁、铝等元素的杂质.为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+ , 再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原反应滴定,锰元素被还原为Mn2+

    ①写出用KMnO4滴定Fe2+的离子方程式:1

    ②滴定前是否要滴加指示剂?2(填“是”或“否”),判断滴定终点的方法是3

    ③某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100mL溶液,移取25.00mL试样溶液,用1.000×102mol•L1KMnO4标准溶液滴定.达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00mL,则残留物中铁元素的质量分数是4.若滴定前平视,滴定后俯视KMnO4液面,对测定结果有何影响5(填“偏高”、“偏低”、或“无影响”)

    【答案】
    【考点】
    【解析】
      

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