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题型：计算题题类：常考题难易度：普通

晶体硅（Si）是一种重要的半导体材料。冶炼硅时常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅，反应的化学方程式是：

现要制备含硅21kg的粗硅，理论上需要二氧化硅的质量是多少？

举一反三

高纯的单晶硅是重要的半导体材料。制备高纯硅的化学方程式为：
SiCl₄ +2H₂Si+ 4HCl。请计算要获得10kg硅（Si），至少需要氢气多少千克？

磷在氧气中燃烧这个反应的化学方程式为　{#blank#}1{#/blank#} ，其中P，O₂ ， P₂O₅之间的质量比是　{#blank#}2{#/blank#} ．若参加反应的P的质量为12.4g，则生成的P₂O₅的质量为{#blank#}3{#/blank#} ；若生成的P₂O₅的质量为142g，则参加反应的氧气的质量为{#blank#}4{#/blank#} ．

某学习小组同学用右图试剂中的过氧化氢溶液（其中5%为过氧化氢，95%为水）制取氧气，取该溶液17g，加入适量MnO₂充分反应．完成下列分析及计算：

某同学对生铁的组成进行研究．称取生铁样品40g，把500g稀硫酸分5次加入样品中，测得实验数据见下表：（生铁中的杂质不溶于水，也不和稀硫酸反应）

实验序号	加入稀硫酸的质量/g	剩余固体的质量/g
第1次	100	28.8
第2次	100	17.6
第3次	100	6.4
第4次	100	m
第5次	100	1.2

某化学实验小组的同学将6.0克生铁放入烧杯中，向其中加入50.0克稀硫酸，恰好完全反应，测得的实验数据如下图：

研究小组为测定某氯酸钾样品中氯酸钾的含量，称取2.00g该样品，加热，收集产生的氧气。在该条件下测得氧气的体积与反应时间的关系如图所示。

已知：①2KClO₃ $\text{[math]}$ 2KCl+3O₂↑；

②该条件下氧气的密度为1.40g•L^﹣1；

③样品中的杂质不参与化学反应。

计算：

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