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题型:单选题 题类: 难易度:普通

广东省肇庆市肇庆中学2024-2025学年九年级上学期期中考试化学试题

 中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体,在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如图,下列说法正确的是(  )

A、反应前后原子数目发生改变 B、物质丁由原子直接构成 C、丙分子中Si、F原子个数比为1:4 D、参加反应的甲和乙的质量之比为71:28
举一反三
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