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题型：单选题题类：难易度：普通

湖北省武汉市洪山区2023-2024学年九年级上学期期末化学试卷

中国芯片蚀刻技术国际领先。NF₃进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如图，下列说法正确的是

A、物质丁由2个原子构成 B、物质乙中硅元素的化合价为零 C、物质丁在空气中的质量分数为78% D、参加反应的甲和乙微粒数之比为1：1

举一反三

在一定条件下，甲和乙反应生成丙的微观示意图如下，则下列说法中错误的是（）

下列说法正确的是（）

空气的主要成分是{#blank#}1{#/blank#}和{#blank#}2{#/blank#}；空气中最不活泼，可作电光源的是{#blank#}3{#/blank#}．

下列说法错误的是（）

根据要求完成下列填空。

下列物质的用途主要利用其化学性质的是：①氧气用于炼钢；②液氮用于医疗麻醉；③氮气制造硝酸；④利用沸点不同工业制氧；⑤稀有气体用做保护气；④稀有气体用于制作霓虹灯。

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