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题型：填空题题类：难易度：普通

2024年广东省深圳市南山区第二外国语学校(集团)学府中学四模物理试卷

光刻技术原理如图：当光源发出强紫外线光时，调节镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离，使光通过二者后，恰好在硅片上成清晰的像，从而实现纳米级集成电路的“雕刻”。缩图透镜属于的类型可用于矫正（选填“近”或“远”）视眼，为了使硅片上所成的像更小一些，应将掩膜版缩图透镜的同时，硅片缩图透镜。（以上两空均选填“靠近”或“远离”）

举一反三

如图所示的甲、乙两图分别是“探究平面镜成像特点”和“探究凸透镜成像规律”的实验装置．

在“探究凸透镜的成像规律”时，把蜡烛放在凸透镜前30cm处，光屏上可接收到倒立等大的清晰的像．则下列说法正确的是（　　）

小兰站在竖直平面镜前看见镜中的自己，感叹由于长期没有注意健康用眼，早早就戴上了近视眼镜，她戴的眼镜对光起{#blank#}1{#/blank#}(选填“会聚”或“发散”)作用；如果小兰距离平面镜1.5m，则她在镜中的像到她的距离为{#blank#}2{#/blank#}m.

校园用餐支付已进入“刷脸”时代，同学结账时只需面对摄像头，经系统自动拍照、扫描后确认相关信息，即可迅速完成交易。下列相关说法正确的是（　　）

如图所示为“探究凸透镜成像的规律”的实验装置.

如图所示，这是某凸透镜成实像时，像距v随物距u变化的关系图像。分析图像中有关数据可知（　　）

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