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题型:单选题 题类: 难易度:普通

【周周清】科学七下试卷(七)

2023 年2月哈工大宣布突破 EUV光刻机关键技术,光刻技术是利用缩图透镜将绘制在掩膜上的电路图通过光源投射到涂有光刻胶的硅片上,从而制造出集成电路的方法,若光刻机选用凸透镜的焦距为 f,则镂空掩膜和凸透镜间的距离u与f的关系需满足(     )
A、2f>u>f B、u<f C、u>2f D、u=2f
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