利用右图装置，可以除去气体中的杂质：写出除去下列气体中的杂质所用试剂及方程式，（括号内的气体为杂质）．

（1）CO₂（HCl）  {#blank#}1{#/blank#}　，反应的离子方程式为　 {#blank#}2{#/blank#}　，不能用NaOH溶液的原因是　 {#blank#}3{#/blank#}　，也不能用Na₂CO₃的原因是　 {#blank#}4{#/blank#}（均用离子方程式表示原因）．

（2）NO（NO₂）　 {#blank#}5{#/blank#}，化学方程式　 {#blank#}6{#/blank#}．

如图所示为常见气体制备、分离、干燥和性质验证的部分仪器装置（加热设备及夹持固定装置均略去），请根据要求完成下列各题（仪器装置可任意选用，必要时可重复选择，a、b为活塞）．

（1）若气体入口通入CO和CO₂的混合气体，E内放置CuO，选择装置获得纯净干燥的CO，并验证其还原性及氧化产物，所选装置的连接顺序为　 {#blank#}1{#/blank#}　 （填装置代号）．能验证CO氧化产物的现象是　 {#blank#}2{#/blank#}

（2）停止CO和CO₂混合气体的通入，E内放置Na₂O₂ ， 按A→E→D→B→H装置顺序制取纯净干燥的O₂ ， 并用O₂氧化乙醇．此时，活塞a应{#blank#}3{#/blank#}活塞b 应 {#blank#}4{#/blank#}，需要加热的仪器装置有　 {#blank#}5{#/blank#}（填仪器代号），m中反应的化学方程式为　 {#blank#}6{#/blank#}．

（3）若气体入口改通空气，分液漏斗内改加浓氨水，圆底烧瓶内改加NaOH固体，E内放置铂铑合金网，按A→G→E→D装置顺序制取干燥氨气，并验证氨的某些性质．

①装置A中能产生氨气的原因有： {#blank#}7{#/blank#}

②实验中观察到E内有红棕色气体出现，证明氨气具有 {#blank#}8{#/blank#}性．

除去氢气中混有少量氯气，使用的洗气装置是 {#blank#}1{#/blank#}

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工作时，是将石英管D出口处氢气点燃。半导体硅片、焊片和金属零件从石英管口送入加热区，在氢气还原气氛中加热使焊片熔化，将单晶硅与金属零件焊接在一起。焊接后再将零件拉至冷却区，冷却后取出。烧氢工艺中的氢气纯度要求极高，工业氢气虽含氢量达99.9％，但仍含有极微量的水蒸气和氧气，所以点燃氢气前应检验氢气的纯度。试回答下列问题：