三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF．下列有关该反应的说法正确的是（）

题型：单选题题类：常考题难易度：普通

2015-2016学年湖北省襄阳市枣阳一中高一下学期月考化学试卷（3月份）

三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5H₂O=2NO+HNO₃+9HF．下列有关该反应的说法正确的是（）

A、NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂 B、还原剂与氧化剂的物质的量之比为2：1 C、若生成0.2 mol HNO₃ ，则转移0.2 mol电子 D、NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

举一反三

实验Ⅰ	实验Ⅱ

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