硅是一种重要的半导体材料，应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如图所示：

题型：综合题题类：常考题难易度：困难

广东省梅州市大埔县2017-2018学年九年级上学期化学期末考试试卷

硅是一种重要的半导体材料，应用范围广。三氯硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如图所示：

（1）、硅属于(选填“金属”或“非金属”)元素；

（2）、写出上述流程中一种氧化物的化学式：；

（3）、上述流程中最后一步反应的化学方程式为，该反应属于(填基本反应类型)反应；

（4）、如果还原SiHCl₃过程中混入O₂ ，可能引起的后果是；

（5）、该流程中可以循环利用的物质的化学式是。

举一反三

（查阅资料：氮气不与碳、氧化铁发生反应）

[提出假设]①该反应的气体产物是CO₂

②该反应的气体产物是CO

③该反应的气体产物是；

【设计实验】

如图所示，将一定量的氧化铁在隔绝空气的条件下与过量炭粉完全反应．

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