试题 试卷
题型:单选题 题类:常考题 难易度:普通
据报道,某种合金材料有较大的储氢容量,其晶体结构的最小单元如右图所示。则这种合金的化学式为( )
氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业.为生成氮化硅膜,可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜:
3SiH4+4NH3Si3N4+12H2
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