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题型:单选题 题类: 难易度:普通

湖北省武汉市洪山区2023-2024学年九年级上学期期末化学试卷

中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体,在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如图,下列说法正确的是

A、物质丁由2个原子构成 B、物质乙中硅元素的化合价为零 C、物质丁在空气中的质量分数为78% D、参加反应的甲和乙微粒数之比为1:1
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