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题型：单选题题类：难易度：普通

广东省深圳外国语学校2024-2025学年九年级上学期开学学情物理试卷

光刻是半导体芯片生产流程中最关键的工艺步骤，如图所示是某型光刻机的简化工作原理，利用缩图透镜将绘制在掩膜上的电路图通过光源投射到涂有光刻胶的硅片上，从而制造出集成电路。若掩膜上的电路图恰好在硅片上成清晰缩小的像，下列说法正确的是（）

A、硅片位于缩图透镜的一倍焦距以内 B、掩膜位于缩图透镜的一倍焦距以内 C、掩膜上的电路图在硅片上成的像是虚像 D、要使硅片上成的像变小，需将掩膜向上移动

举一反三

在“探究凸透镜的成像规律”实验中：

把一个凸透镜对准太阳光，可在距凸透镜15cm处得到一个最小、最亮的光斑．若将一物体放在此透镜前40cm处，则可在另一侧得到一个（）

两束红光AO，CD平行入射半圆形玻璃砖，如图1所示，点O为圆心，已知AO光线偏折后沿直线OB射出玻璃砖，

如图是“研究凸透镜成像”的实验示意图，

在探究“凸透镜成像规律”的实验中，将点燃的蜡烛放在距凸透镜32cm处，在透镜另一侧距透镜18cm处的光屏上得到烛焰清晰的像，则（）

在探究凸透镜成像规律的实验中，小陈同学将蜡烛、凸透镜、光屏依次放在光具上如图所示：

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