光刻机是生产芯片的核心设备，其作用主要是让光源发出的光通过物镜把设计的电路图样打在涂抹了光刻胶的硅晶圆上，将电路雕刻在上面；光的波长越小，能雕刻的尺寸越小，制造的芯片就越精密；目前世界上生产的光刻机主要是利用紫外线作为光源，紫外线的光子能量范围为3eV<E<124eV。如图所示为氢原子的能级图。现有一群处于n=4能级的氢原子，下列说法正确的有（ ）
A、氢原子辐射的光中，有四种频率的光为紫外线
B、氢原子辐射的光中，波长最长的光子能量为0.66eV
C、氢原子辐射的光中，能使光刻机雕刻尺寸最小的光子能量为12.75eV
D、在光刻机的物镜和硅晶圆之中充满水，打在硅晶圆上的光的波长将变短
