半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）中一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如下图所示：（部分夹持装置略去）已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3，与过量Cl2反应生成PCl5和HCl，遇O2会生成POCl3，POCl3溶于PCl3，PCl3、POCl3的熔沸点见下表：物质熔...

题型：实验探究题题类：常考题难易度：普通

2015年山西省晋中市和顺县复习班高考化学模拟试卷（5月份）

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl₃）中一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl₂模拟工业生产制取PCl₃ ，装置如下图所示：（部分夹持装置略去）

已知黄磷与少量Cl₂反应生成PCl₃ ，与过量Cl₂反应生成PCl₅和HCl，遇O₂会生成POCl₃ ， POCl₃溶于PCl₃ ， PCl₃、POCl₃的熔沸点见下表：

请回答下列问题

（1）、装置中制氯气的离子方程式为

（2）、B中的试剂是，E中次冷水的作用是，F中碱石灰的作用是

（3）、实验时，检查装置气密性后，先打开K₃通入干燥的CO₂ ，再迅速加入黄磷．通干燥CO₂的作用是通过控制K₁、K₂能除去A、B装置中的空气，具体的方法是

（4）、粗产品含有POCl₃、PCl₃等，加入黄磷加热除去PCl₅ ，通过（填实验操作的名称），即可得到纯净的PCl₃

（5）、通过下面方法可测定产品中PCl₃的质量分数．

①迅速称取100g产品，加水反应后配成250mL溶液；

②取以上溶液25.0mL，向其中加入0.1mol 10mL碘水，充分反应；③向②所得溶液中加入几滴淀粉溶液，用0.1mol/L的Na₂S₂O₃溶液滴定，滴定终点现象是

④重复②、③操作，平均消耗Na₂S₂O₃溶液8.40mL．已知H₃PO₃+H₂O+I₂=H₃PO₄+2HI，I₂+2Na₂S₂O₃=2NaI+Na₂SO₄根据以上数据，该产品中PC₃的质量分数是．

举一反三

NaBr+H₂SO₄→HBr+NaHSO₄

CH₃CH₂OH+HBr $\text{[math]}$ CH₃CH₂Br+H₂O

化学兴趣小组根据实验原理设计如图的装置．

根据题意完成下列填空：有关数据列表如下：

已知：连苯三酚的碱性溶液能吸收少量O₂；氯化亚铜的盐酸溶液能吸收少量CO且易被O₂氧化。请回答下列问题：

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