半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）中一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如下图所示：（部分夹持装置略去）已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3，与过量Cl2反应生成PCl5和HCl，遇O2会生成POCl3，POCl3溶于PCl3，PCl3、POCl3的熔沸点见下表：物质熔...

题型：实验探究题题类：常考题难易度：普通

2015年山西省晋中市和顺县复习班高考化学模拟试卷（5月份）

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl₃）中一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl₂模拟工业生产制取PCl₃ ，装置如下图所示：（部分夹持装置略去）

已知黄磷与少量Cl₂反应生成PCl₃ ，与过量Cl₂反应生成PCl₅和HCl，遇O₂会生成POCl₃ ， POCl₃溶于PCl₃ ， PCl₃、POCl₃的熔沸点见下表：

物质	熔点/℃	沸点/℃
PCl₃	﹣112	75.5
PCl₅	2	105.3

请回答下列问题

（1）、装置中制氯气的离子方程式为

（2）、B中的试剂是，E中次冷水的作用是，F中碱石灰的作用是

（3）、实验时，检查装置气密性后，先打开K₃通入干燥的CO₂ ，再迅速加入黄磷．通干燥CO₂的作用是通过控制K₁、K₂能除去A、B装置中的空气，具体的方法是

（4）、粗产品含有POCl₃、PCl₃等，加入黄磷加热除去PCl₅ ，通过（填实验操作的名称），即可得到纯净的PCl₃

（5）、通过下面方法可测定产品中PCl₃的质量分数．

①迅速称取100g产品，加水反应后配成250mL溶液；

②取以上溶液25.0mL，向其中加入0.1mol 10mL碘水，充分反应；③向②所得溶液中加入几滴淀粉溶液，用0.1mol/L的Na₂S₂O₃溶液滴定，滴定终点现象是

④重复②、③操作，平均消耗Na₂S₂O₃溶液8.40mL．已知H₃PO₃+H₂O+I₂=H₃PO₄+2HI，I₂+2Na₂S₂O₃=2NaI+Na₂SO₄根据以上数据，该产品中PC₃的质量分数是．

举一反三

某研究性学习小组在实验室模拟工业“侯氏制碱法”原理制取NaHCO₃ ．下图是该学习小组进行模拟实验时所用到的主要装置．

请回答下列问题：

某废催化剂含58.2%的SiO₂、21.0%的ZnO、4.50%的ZnS和12.8%的CuS及少量的Fe₃O₄ ．某同学用15.0g该废催化剂为原料，回收锌和铜．采用的实验方案如下，回答下列问题：

已知：ZnS与稀硫酸反应，且化合价不变； CuS既不溶解于稀硫酸，也不与稀硫酸反应

为了回收利用SO₂ ，研究人员研制了利用低品位软锰矿浆（主要成分是MnO₂）吸收高温焙烧含硫废渣产生的SO₂废气，制备硫酸锰晶体的生产流程，其流程示意图如下：

已知，浸出液的pH＜2，其中的金属离子主要是Mn²⁺ ，还含有少量的Fe²⁺、Al³⁺等其他金属离子．有关金属离子形成氢氧化物沉淀时的pH见下表：

离子	开始沉淀时的pH	完全沉淀时的pH
Fe²⁺	7.6	9.7
Fe³⁺	2.7	3.7
Al³⁺	3.8	4.7
Mn²⁺	8.3	9.8

请回答下列问题：

硫酸亚铁铵[（NH₄）₂Fe（SO₄）₂]常用作化学试剂，也用于冶金、电镀等

回答下列问题：

FeCl₂是常用的还原剂和媒染剂，广泛用于织物印染、医药、冶金和照相，对各类废水有明显的处理效果，水中重金属离子的去除率接近100%。有关数据如下：

	C₆H₅Cl(氯苯)	C₆H₄Cl₂	FeCl₃	FeCl₂
式量	112.5	147	162.5	127
溶解性	不溶于水，易溶于苯		溶于水，不溶于C₆H₅Cl、C₆H₄Cl₂、苯
熔点/℃	-45	53	——	——
沸点/℃	132	173	——	——

查阅资料知：氯化铁晶体、氯化亚铁晶体都易潮解。实验室可以用如下方法来制备无水FeCl₂ ，并利用所得C溶液测定出FeCl₃的转化率。按下图装置，在三颈烧瓶中放入162.5 g无水氯化铁和225 g氯苯，控制反应温度在128～139℃加热约3 h，冷却，分离得到粗产品。反应的化学方程式为：2FeCl₃+C₆H₅Cl→2FeCl₂+C₆H₄Cl₂+HCl↑

请回答下列问题：

某小组采用如下实验流程制备AlI₃：

已知：AlI₃是一种无色晶体，吸湿性极强，可溶于热的正己烷，在空气中受热易被氧化。

请回答：

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