试题

试题 试卷

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题型:综合题 题类:常考题 难易度:普通

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业.为生成氮化硅膜,可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜:

3SiH4+4NH3Si3N4+12H2

(1)、

以硅化镁为原料制备硅烷的反应和工业流程如下:

反应原理:4NH4Cl+Mg2Si4NH3↑+SiH4↑+2MgCl2(△H<0)

①NH4Cl的化学键类型有 , SiH4电子式为  .

②上述生产硅烷的过程中液氨的作用是 .

③氨气也是重要的工业原料,写出氨气发生催化氧化反应生成NO的化学方程式  ,实验室可利用如图所示装置完成该反应. 

在实验过程中,除观察到锥形瓶中产生红棕色气体外,还可观察到有白烟生成,白烟的主要成分是 .

(2)、

三硅酸镁(Mg2Si3O8∙nH2O)难溶于水,在医药上可做抗酸剂.它除了可以中和胃液中多余酸之外,生成的H2SiO3还可覆盖在有溃疡的胃表面,保护其不再受刺激.三硅酸镁与盐酸反应的化学方程式为  . 将0.184g三硅酸镁加到50mL 0.1mol/L盐酸中,充分反应后,滤去沉淀,以甲基橙为指示剂,用0.1mol/L NaOH溶液滴定剩余的盐酸,消耗NaOH溶液30mL,则Mg2Si3O8∙nH2O的n值为  . (注:Mg2Si3O8的摩尔质量为260g/mol)

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