题型:填空题 题类:常考题 难易度:普通
(1)印刷电路板是由高分子材料和铜箔复合而成,可用FeCl3溶液作“腐蚀液”刻制印刷电路 ;
(2)玻璃中含有SiO2 , 可以用HF(氢氟酸)来刻蚀玻璃 ;
(3)工业上利用NO2与水反应制取HNO3 ,该反应的氧化剂是 ,还原剂是 .
步骤 | 原理 | 操作 |
1 | 在TiO2催化作用下,用NaClO将CN-氧化成CNO-(CN-和CNO-中N元素均为-3价)。 | 将1 L含氰电镀废水经浓缩后与过量NaClO溶液混合,倒入甲中,塞上橡皮塞。 |
2 | 在酸性条件下CNO-与NaClO反应生成N2、CO2和Cl2。 | 一段时间后,打开橡皮塞和活塞,使溶液全部放入乙中,关闭活塞。 |
已知:含氰电镀废水中CN-离子浓度为a mg•L-1;玻璃棉不参与反应。
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